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IS-PM 系列貴金屬薄膜專用鍍膜設備采用雙腔室結構設計，工 藝腔+裝/卸載腔，是工藝可靠性與制程效率的完美融合。設備配備一 套高能離子束清洗源（Ionbeam Cleaning Source），多套磁控濺射 源（Magnetron Sputtering Source），配合可靠的伺服電磁推進系 統，設備模塊化程度高、穩定性好、操作簡單且維護方便。